euv기술2 삼성전자 DRAM 개발 지연 – 반도체 주도권 경쟁의 경고등 삼성전자는 세계 최대의 메모리 반도체 제조사로, 글로벌 DRAM 시장에서 선두 자리를 오랫동안 유지해 왔습니다. 하지만 최근 차세대 DRAM 기술 개발의 지연 소식이 전해지며, 업계 전반에 긴장감이 감돌고 있습니다.원래 2025년 7월로 예정되어 있던 1c DRAM 샘플 테스트 일정이 미뤄지면서, 기술력의 상징이자 미래 수익을 좌우할 핵심 제품의 상용화 시점이 불확실해졌습니다.1c DRAM 개발 지연의 배경삼성전자가 개발 중인 1c DRAM은 기존 1a, 1b 공정보다 더 미세한 기술이 적용되는 제품입니다. 하지만 기술적 완성도 확보에 어려움을 겪으며, 샘플 테스트 일정이 2025년 하반기 이후로 연기되었습니다.이는 단순한 일정 조정이 아니라, 글로벌 반도체 경쟁 구도에서의 주도권 상실 가능성을 의미합니.. 2025. 4. 22. 삼성전자의 EXE:5000 도입, 차세대 반도체 공정의 시작 삼성전자가 3월 초 화성 캠퍼스에 첫 번째 High-NA EUV 장비인 EXE:5000을 도입했다는 소식이 전해졌습니다. 이 장비는 약 500억 원(약 5억 달러)에 달하며, ASML에서 독점 공급하는 최신 기술을 기반으로 한 반도체 제조 장비입니다. EXE:5000은 2nm 이하의 미세 공정에 필수적인 도구로 여겨지며, 삼성전자의 반도체 기술을 한 단계 더 발전시킬 중요한 기술적 전환점으로 자리 잡을 것입니다.EXE:5000의 도입, 반도체 기술 혁신의 핵심EXE:5000은 ASML의 차세대 Extreme Ultraviolet (EUV) 리소그래피 기술을 기반으로 한 장비입니다. 기존 EUV 기술보다 더 높은 해상도와 정확도를 제공하며, 2nm 이하의 미세 공정에서 더욱 정밀한 반도체 회로를 만들 수 .. 2025. 3. 13. 이전 1 다음
