반응형 반도체공정2 갤럭시 S28 엑시노스 2800, 1.4나노 포기했다 — 삼성이 '속도'보다 '안정'을 선택한 이유 갤럭시 S28 탑재 예정 엑시노스 2800이 1.4나노를 포기하고 SF2P+ 2나노 공정으로 확정됐습니다. 성능 12% 향상·전력 25% 절감 목표와 삼성 최초 자체 GPU 탑재 가능성까지 완전 정리했습니다. IT·스마트폰 갤럭시 S28 엑시노스 2800, 1.4나노 포기했다 — 삼성이 '속도'보다 '안정'을 선택한 이유 코드명 뱅가드(Vanguard), SF2P+ 2나노 공정 확정 — 성능 12% 향상·전력 25% 절감 목표, 삼성 최초 자체 GPU 탑재 가능성까지 2026.03.27 · 미시카 이야기 · IT·스마트폰 핵심 요약 갤럭시 S28 탑재 예정 엑시노스 2800(코드명 뱅가드), 1.4나노 포기하고 SF2P+ 2나노 공정 확정 성능 12%.. 2026. 3. 27. 삼성전자의 EXE:5000 도입, 차세대 반도체 공정의 시작 삼성전자가 3월 초 화성 캠퍼스에 첫 번째 High-NA EUV 장비인 EXE:5000을 도입했다는 소식이 전해졌습니다. 이 장비는 약 500억 원(약 5억 달러)에 달하며, ASML에서 독점 공급하는 최신 기술을 기반으로 한 반도체 제조 장비입니다. EXE:5000은 2nm 이하의 미세 공정에 필수적인 도구로 여겨지며, 삼성전자의 반도체 기술을 한 단계 더 발전시킬 중요한 기술적 전환점으로 자리 잡을 것입니다.EXE:5000의 도입, 반도체 기술 혁신의 핵심EXE:5000은 ASML의 차세대 Extreme Ultraviolet (EUV) 리소그래피 기술을 기반으로 한 장비입니다. 기존 EUV 기술보다 더 높은 해상도와 정확도를 제공하며, 2nm 이하의 미세 공정에서 더욱 정밀한 반도체 회로를 만들 수 .. 2025. 3. 13. 이전 1 다음 반응형
