반응형 highnaeuv2 1.4nm 경쟁 본격화 High NA EUV 승자는 누구인가 2nm 양산이 본격화된 2025년 말 이후, 글로벌 반도체 산업의 시선은 빠르게 1.4nm 세대로 이동하고 있습니다. 초미세 공정은 단순한 기술 진화가 아니라 국가 경쟁력과 직결된 전략 자산입니다. 그리고 그 중심에는 네덜란드 노광 장비 기업 ASML의 High NA EUV가 자리하고 있습니다.기존 EUV는 NA 0.33 기반이었습니다. High NA EUV는 이를 0.55까지 끌어올리며 해상도를 비약적으로 개선합니다. 이론적으로 단일 노광 해상도가 약 13nm 수준에서 8nm 수준으로 줄어듭니다. 이는 1.4nm 로직 공정과 10nm급 이하 DRAM 패터닝에서 멀티패터닝 부담을 완화할 수 있다는 의미입니다.그러나 High NA EUV는 만능 해결책이 아닙니다. 장비 가격은 약 3억 8천만 달러 수준으로.. 2026. 2. 16. 삼성전자의 EXE:5000 도입, 차세대 반도체 공정의 시작 삼성전자가 3월 초 화성 캠퍼스에 첫 번째 High-NA EUV 장비인 EXE:5000을 도입했다는 소식이 전해졌습니다. 이 장비는 약 500억 원(약 5억 달러)에 달하며, ASML에서 독점 공급하는 최신 기술을 기반으로 한 반도체 제조 장비입니다. EXE:5000은 2nm 이하의 미세 공정에 필수적인 도구로 여겨지며, 삼성전자의 반도체 기술을 한 단계 더 발전시킬 중요한 기술적 전환점으로 자리 잡을 것입니다.EXE:5000의 도입, 반도체 기술 혁신의 핵심EXE:5000은 ASML의 차세대 Extreme Ultraviolet (EUV) 리소그래피 기술을 기반으로 한 장비입니다. 기존 EUV 기술보다 더 높은 해상도와 정확도를 제공하며, 2nm 이하의 미세 공정에서 더욱 정밀한 반도체 회로를 만들 수 .. 2025. 3. 13. 이전 1 다음 반응형
